1月9日下午，由我校科研部与机械工程学院联合主办的“船山大讲堂”系列学术报告在雨母校区崇业楼学术报告厅开讲。西南交通大学机械工程学院、国家优青、博士生导师陈磊教授应邀为师生带来了一场题为“关于原子级抛光与改性调控研究相关的一些思考”的学术讲座。本次讲座吸引了学院众多师生积极参与，现场学术氛围浓厚。

陈磊教授长期致力于原子级抛光与表面摩擦调控相关领域的研究。在讲座中，他系统阐述了原子级抛光技术的科学内涵与核心挑战。他指出，原子级抛光是一种去除精度达到原子层量级的可控超精密加工技术，已成为推动尖端科技发展的关键制造手段之一。

陈教授结合其团队研究进展，深入分析了该技术在集成电路制造中的迫切需求。他解释道，随着芯片特征尺寸持续微缩，不仅要求晶圆表面粗糙度达原子级以保证光刻图形质量，更需对互连异质材料实现原子层量级的精确抛光控制，从而精准把握工艺终点，保障芯片良率。此外，他还展望了该技术在高端装备、航空航天等领域核心零部件性能提升方面的巨大潜力——通过原子尺度的无损抛光与表面性能主动调控，有望创成具有特殊功能与极致可靠性的表面，突破现有部件在极端环境下的服役性能极限。

讲座中，陈磊教授还分享了其在国家级科研项目申报方面的宝贵经验，并就领域未来发展方向、关键技术挑战与在场师生进行了探讨。本次讲座内容前沿、见解深刻，不仅拓宽了学院师生在超精密加工领域的学术视野，也促进了双方在机械工程前沿研究方向的思考与交流，对营造学院浓厚科研氛围、推动学科建设与发展起到了积极作用。